CY3-Glycyrrhetinic acid,CY3-GA,CY3-甘草次酸的合成方法
CY3 - 甘草次酸(CY3 - Glycyrrhetinic acid,簡稱 CY3 - GA)是一種將 CY3 熒光基團與甘草次酸相連的化合物。以下是其相關信息:
結構特點
CY3 熒光基團:具有共軛吲哚菁結構,最大吸收波長在 550nm 左右,發射波長在 570nm 左右,能發出明亮的橙紅色熒光,熒光量子產率較高,光穩定性良好,可用于熒光標記和檢測。
甘草次酸基團:是甘草酸去糖基后的產物,其 18 位碳為手性碳,通常有順式(18α)和反式(18β)兩種構型,自然界中 18α 異構體含量較少,多以 18β 異構體為主。甘草次酸結構與類固醇類似,具有雙親性,但親脂性較強。
連接方式:通過特定的化學反應,將 CY3 熒光基團上的活性基團與甘草次酸分子上的可反應基團進行連接,形成穩定的共價鍵,使化合物兼具 CY3 的熒光特性和甘草次酸的生物活性。
合成方法
合成 CY3 - 甘草次酸通常需要先對 CY3 熒光染料進行功能化修飾,引入能夠與甘草次酸反應的活性基團,如羧基、氨基等。然后,選擇合適的甘草次酸衍生物,使其與功能化的 CY3 染料在適當的反應條件下發生化學反應,形成 CY3 - 甘草次酸化合物。例如,可以將含有活性羧基的 CY3 染料與含有氨基的甘草次酸衍生物在縮合劑的作用下進行酰胺化反應,生成 CY3 - 甘草次酸。反應過程中需要嚴格控制反應條件,如溫度、溶劑、反應時間等,以確保反應的選擇性和產率。此外,還需要對反應產物進行純化和表征,以獲得高純度的 CY3 - 甘草次酸化合物。
名稱:CY3-Glycyrrhetinic acid,CY3-GA,CY3-甘草次酸
純度:95%+
性狀:基于不同的分子量,呈白色 / 類白色固體,或液體。
溶劑:溶于二氯甲烷、DMSO、水等常規有機溶劑。
儲藏條件:-20°C干燥避光保存
包裝規格:50mg 100mg 250mg 500mg(按需提供)
性質特點
光學性質:因含有 CY3 熒光基團,CY3 - 甘草次酸具有良好的熒光性能,能發出橙紅色熒光,可用于熒光檢測和成像。甘草次酸基團的引入可能會對 CY3 的熒光性質產生一定影響,但通常仍能保持較強的熒光信號。
化學性質:甘草次酸具有一定的酸性,可與堿反應生成鹽。CY3 - 甘草次酸中的 CY3 熒光基團相對穩定,但在一些特定條件下,如強酸、強堿或強氧化劑存在時,可能會發生熒光淬滅或結構變化。
溶解性:由于甘草次酸親脂性較強,CY3 - 甘草次酸一般可溶于有機溶劑,如乙醇、氯仿、吡啶等。其在水中的溶解性相對較差,但通過一些特殊的制劑技術,如制成脂質體或與親水性聚合物結合等,可以改善其在水中的分散性和溶解性。
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僅供科研,不能用于人體實驗AXC.2025.04.10
CY3-Glycyrrhetinic acid,CY3-GA,CY3-甘草次酸
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