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萊特萊德（北京）純水設備技術股份有限公司
萊特萊德（北京）純水設備技術股份有限公司
半導體行業超純水工藝簡介：
超純水主要應用于溶劑用水、化學分析、化工材料、產品清洗、物質的分離、濃縮、提純等場合，對于水質要求相對嚴格，我們公司可根據客戶對水質的具體要求，采用反滲透，EDI等超純水生產工藝的不同組合，生產出既經濟實用，又能滿足客戶要求的超純水設備。
產品信息和價格僅供參考，詳細可留言咨詢。
半導體行業超純水工藝
超純水設備一般采用反滲透作預處理再配上去離子(EDI)裝置，利用反滲透原理，有效去除水中各種鹽份、離子、顆粒，細菌等，有著產水水質穩定、操作簡便、運行費用低、綠色環保無污染、維護方便等優點，能滿足客戶的用水需求。
半導體行業超純水工藝優勢
1、設計參數準確、系統運行穩定;
2、儀器儀表完善，在線讀取運行數據;
3、設備欠壓或超壓時，可及時報警停機;
4、自動化程度高，減少人力投入;
5、設備集成度高，便于運輸與安裝。
半導體行業超純水工藝應用范圍
1、電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗。
2、電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液。
3、顯像管和陰極射線管生產、配料用純水。
4、黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水。
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